Accessible Requires Authentication Published by Oldenbourg Wissenschaftsverlag November 7, 2017

Optical metrology for the investigation of buried technical structures

Optische Messtechniken für die Untersuchung von vergrabenen technischen Strukturen
Lena Göring, Markus Finkeldey, Falk Schellenberg, Carsten Brenner, Martin R. Hofmann and Nils C. Gerhardt
From the journal tm - Technisches Messen

Abstract

In this paper, we present different optical metrology approaches for the investigation of buried technical structures. Contactless, potentially fast and non-destructive techniques such as optical beam induced current (OBIC), confocal laser scanning microscopy (CLSM) and digital holographic microscopy (DHM) are described. Their properties are illustrated by investigating the buried structures of a microcontroller.

Zusammenfassung

In diesem Artikel präsentieren wir unterschiedliche optische Messtechniken für die Untersuchung vergrabener technischer Strukturen. Die Verfahren Photostromspektroskopie (OBIC), konfokale Laser-Scanning-Mikroskopie (CLSM) und digitale holographische Mikroskopie (DHM) arbeiten berührungslos, schnell und zerstörungsfrei. Die Eigenschaften dieser Bildgebungsverfahren werden im Folgenden im Rahmen einer Untersuchung von vergrabenen Strukturen eines Mikrocontrollers diskutiert.

Acknowledgement

The work described in this paper has been supported by the German Federal Ministry of Education and Research BMBF (Project NanoDiHoTo (13N13015) and PhotonFX2 (16R150026)). The authors would like to thank Enrico Dietz and Sven Frohmann from Technische Universität Berlin for providing multiple thinned ATXMega microcontrollers.

Received: 2017-7-20
Revised: 2017-9-19
Accepted: 2017-10-10
Published Online: 2017-11-7
Published in Print: 2018-2-23

©2017 Walter de Gruyter Berlin/Boston