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Licensed Unlicensed Requires Authentication Published by Oldenbourg Wissenschaftsverlag September 25, 2009

Dimensionelle Metrologie an ebenen Substraten mit Mikro- und Nanostrukturen Dimensional Metrology on Plane Substrates with Micro- and Nanostructures

Harald Bosse , Jens Flügge , Rainer Köning , Carl Georg Frase , Wolfgang Häßler-Grohne , Andreas Just and Ralf Geckeler
From the journal tm - Technisches Messen

Zusammenfassung

Der Beitrag stellt die messtechnischen Anforderungen vor zur präzisen Charakterisierung von mikro- und nanostrukturierten ebenen Substraten wie Strichmaßstäben, inkrementellen Encodern oder Masken hinsichtlich dimensioneller Messgrößen wie Positionen, Abstände, Koordinaten und Breiten von Strukturen sowie die hierzu in der PTB entwickelten Referenzverfahren und -messgeräte.

Abstract

This contribution describes the measurement requirements for precise characterization of plane substrates carrying micro- and nanostructures like line scales, incremental encoders, or photomasks as well as the reference procedures and instrumentation developed at PTB for measurement of positions, distances, coordinates, and widths of structures.


* Correspondence address: Physikalisch-Technische Bundesanstalt, Fachbereich 5.2, Bundesallee 100, 38116 Braunschweig, Deutschland

Published Online: 2009-09-25
Published in Print: 2009-02

© by Oldenbourg Wissenschaftsverlag, München, Germany

Downloaded on 30.11.2022 from frontend.live.degruyter.dgbricks.com/document/doi/10.1524/teme.2009.0923/html
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