Abstract
In the contribution we present an interferometric displacement monitoring system for positioning of a sample stage for local probe microscopy. The arrangement is designed for metrology applications with direct link to fundamental etalon of length and monitoring of all six axes of freedom of motion. Active position of control is proposed.
Zusammenfassung
In diesem Beitrag stellen wir ein interferometrisches Abstandsüberwachungssystem für die Positionierung eines Objekttisches für Rasterkraftmikroskopie vor. Die Anordnung wurde entwickelt, um direkt rückführbare Metrologieanwendungen mit Überwachung aller sechs Freiheitsgrade zu ermöglichen. Außerdem wird eine aktive Positionsregelung vorgeschlagen.
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